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產品展示
   
氣相二氧化硅
介紹: REOLOSIL是TOKUYAMA公司生產的氣相二氧化硅,它是采用高純四氯化硅在氫氧焰中高溫水解反應制成的。是由5-50納米的一次粒子經三維凝集結構形成的高純度無機粉體產品。
 
用途: 利用它的表面結構和分散后的凝集結構,可使液態樹脂等增稠并具有觸變性。同時還可以用于粉體材料的流動性和防止固結,并作為橡膠、彈性體的補強填料。
高純度四氯化硅
介紹: TOKUYAMA公司生產的高純度四氯化硅是一種無色的液體產品,有刺激性氣味,易潮解。純度:99.99%以上;金屬不純物濃度<10ppbwt以下。
 
用途: TOKUYAMA獨有的技術精制的高純度四氯化硅,可滿足各種不同的客戶要求,應用于光纖、多晶硅、高純石英等
高純度三氯硅烷
介紹: 三氯硅烷又稱三氯氫硅、硅氯仿,是通過高純氯化氫氣體與金屬級單體硅在一定壓力溫度條件下反應后,經過冷卻、收集、精餾后制備的。三氯硅烷是一種易揮發,易潮解的無色液體。純度:99.99%以上;金屬不純物濃度<10ppbwt以下
 
用途: 高純度三氯硅烷,雜質含量少,品質穩定,應用于高品質多晶硅。
電子級異丙醇
介紹: 本產品使用日本總公司生產的高品質IPA作為原料,在進行嚴格品質管控的同時,根據客戶需求進行不同容器包裝。
 
用途: 電子設備的清洗干燥
電子級四甲基氫氧化氨
介紹: 本產品使用日本總公司生產的高品質TMAH作為原料,在進行嚴格品質管控的同時,根據客戶需求進行不同容器包裝。
 
用途: 光刻膠顯影劑、電子設備等的堿性清洗液、MEMS用Si刻蝕劑、CMP拋光原料
鹽酸
介紹: 德山化工的鹽酸是生產氣相二氧化硅過程中的副產物。
 
用途: 水處理劑、金屬表面清洗劑(酸洗)
氣相二氧化硅
高純度四氯化硅
高純度三氯硅烷
電子級異丙醇
電子級四甲基氫氧化氨
鹽酸

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